等離子表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。在于對物體表面處理，清洗、改性、刻蝕等；解決用戶不同的表面處理需求。

　　等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性“組分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。

　　該設備憑借等離子體中活性粒子的“活化作用”來使得將物體表面污漬去除的目的達到為等離子體清洗的機理。就反應機理來觀察。將無機氣體激發(fā)為等離子態(tài)、在固體表面吸附氣相物質(zhì)、被吸附基團與固體表面分子反應使產(chǎn)物分子生成、產(chǎn)物分子被解析使氣相形成以及反應殘余物從表面脫離為等離子體清洗一般所包含的過程。

　　等離子表面處理儀在材料學，光學，電子學，醫(yī)藥學，環(huán)境學、生物學等科研領域得了廣泛的應用，主要用于材料表面清洗、活化、沉積、去膠、刻蝕、接枝聚合、疏水、親水、金屬還原、去除有機物、鍍膜前處理等。