在一定條件下還能使樣品表面特性發生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質，所以能有效避免樣品的再次污染。我們公司自主研發生產的等離子清洗機既能加強樣品的粘附性、相容性和浸潤性，也能對樣品進行消毒和殺菌。等離子清洗器現已廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、高分子、生物醫學、微觀流體學等領域。

　　國產系列等離子清洗機是在國外等離子清洗價格貴，難以推廣等缺點的基礎上，吸取了現有國內外等離子清洗的優點，結合國內用戶的使用需求，采用先進科技手段開發出的新型系列等離子清洗器。一般來說國產配置的等離子清洗機其性能已經能夠達到一些工件的處理要求了。如果是要求相當高的，比如說產品工件本身成本就非常昂貴的，或者說產品工件本身對質量要求非常苛刻的，可以選用進口等離子設備的配置。該產品除擁有其它等離子清洗機的優點外，更具有性能穩定、性價比高、清洗效率高、操作簡便、使用成本極低、易于維護的優點。產品能適應不同用戶對設備的特殊要求。清洗艙的材料有耐熱玻璃和不銹鋼可選擇，不銹鋼類清洗艙有圓形和方形可選擇。儀器性能、整機規格和清洗艙的尺寸可根據用戶的實際需要而特制。

　　低溫等離子處理機的等離子體是正離子和電子的密度大致相等的電離氣體。由離子、電子、自由激進分子、光子以及中性粒子組成。是物質的第四態。

　　通常情況下，人們普遍認為的物質有三態：固態、液態、氣態。區分這三種狀態是靠物質中所含能量的多少。氣態是物質的三個狀態中zui高的能量狀態 。

　　給氣態物質更多的能量，比如加熱，將會形成等離子體。當到達等離子狀態時，氣態分子裂變成了許許多多的高度活躍的粒子。這些裂變不是*的，一旦用于形成等離子體的能量消失，各類粒子重新結合，形成原來的氣體分子。

　　利用低溫等離子體處理技術在本世紀六十年代起就開始應用于化學合成、薄膜制備、表面處理和精細化工等領域，在大規模或超大規模集成電路工藝干法化、低溫化方面，在近年來也開發應用了等離子體聚合、等離子體蝕刻、等離子體灰化及等離子體陽極氧化等全干法工藝技術。等離子清洗機技術也是工藝干法化的進步成果之一。

　　與濕法清洗不同，等離子清洗的機理是依靠處于“等離子態”的物質的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。從目前各類清洗方法來看，可能等離子體清洗也是所有清洗方法中zui為*的剝離式的清洗。目前就國內來說等離子清洗這一運用還是相當的普遍的了。特別是近幾年，隨著等離子電視，等離子切割機等等，這些高科技產品的不斷衍生，等離子這個高科技技術已經和我們的工業產品有著很密切的關系了。

　　利用等離子設備來開封封裝元件使內部的組件暴露出來。通過開封打開元件后可以分析裸片、內部連接或其他特征，尤其適用于失效分析中。元件失效分析通常依靠選擇性的刻蝕掉封膠聚合物而不影響邦定的金屬絲和元件表層。這可以通過使用微波等離子設備來清潔和去除封膠材料。使用等離子工藝時，等離子清洗機的刻蝕性能具有高選擇性，不會影響內部連接。